產品分類
- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
-
非導電薄膜等離子磁控濺... 非導電薄膜等離子磁控濺射鍍膜儀是一款緊湊型2英寸單頭射頻等離子磁控濺射系統，涂有非金屬，主要是氧化物薄膜。非導電薄膜等離...
-
三靶磁控濺射鍍膜儀 產品簡介：CY-600-3HD三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研制開發的一款性價比較高的磁控濺射鍍膜儀，可用于制備單層或多...
-
四英寸四靶靶磁控濺射鍍... 用于金屬+非金屬 鈦膜、金膜、鉻膜、二氧化硅薄膜生長多層薄膜的制備，在電子領域、光學領域、有機物等領域均有應用，也可實驗...
-
高真空電子束蒸發鍍膜儀 電子束蒸發方式鍍膜設備，主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預處理等，尤其...
-
大功率直流磁控濺射鍍膜... 大功率直流磁控濺射鍍膜儀是一款高功率臺式磁控等離子濺射鍍膜機 ，帶有一個水冷2英寸靶頭，冷水機和可旋轉樣品架。大功率直流...
-
桌面型不銹鋼腔體熱蒸發... 熱蒸發鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發、氣態粒子的輸運以及在基底上的沉積成膜。在蒸發過程中，材料需要獲得足夠的熱能以克...
-
高真空三源熱蒸發鍍膜儀 三源高真空蒸發鍍膜儀應用領域：金屬和介電膜 ，薄膜傳感器的制造 ，光學元件 ，納米與微電子 ，太陽能電池等
-
卷繞式高真空蒸發鍍膜儀 卷繞式蒸發鍍膜儀可用于不同種類的材料的薄膜生長，大多數金屬和某些有機材料薄膜，如金屬、半導體、氧化物等
-
帶手套箱三源蒸發鍍膜儀 鍍膜設備以金屬/有機源蒸發為主體，適用于實驗室制備金屬單質、氧化物、介電質、半導體膜等，也可用作教學及生產線前期工藝試驗...
-
多源真空蒸發鍍膜儀 高真空蒸發鍍膜儀還適用于對氧敏感的金屬薄膜（如Ti、Al、Au等）的蒸鍍，也適用于各種氧化物材料的蒸鍍
-
5英寸近源有機物蒸發鍍... 近源有機物蒸發鍍膜爐是一種雙加熱區快速熱處理爐，它是研究新一代太陽能電池薄膜的主要工具，如CdTe、硫化物和鈣鈦礦太陽能...
-
桌面型三源蒸發鍍膜儀 熱蒸發鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發、氣態粒子的輸運以及在基底上的沉積成膜。在蒸發過程中，材料需要獲得足夠的熱能以克...
-
半導體薄膜電子束蒸發鍍... 電子束蒸發方式鍍膜設備，主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預處理等，尤其...
-
3靶緊湊型磁控濺射鍍膜... 3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀是一種三頭1"射頻等離子體磁控濺射系統，設計用于非金屬薄膜涂層，主要用于多層氧化物薄膜。3靶緊湊...
-
小型高真空雙源熱蒸發鍍... 小型蒸發鍍膜儀，可提供*大100A的鍍膜電流，*大蒸發溫度可達1800℃，能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍
-
單靶磁控濺射鍍膜儀 本單靶磁控濺射鍍膜儀配有一套磁控靶、一套300W的RF濺射電源(或一套500W的直流濺射電源或一套100W的偏壓電源）。...
-
高真空雙源熱蒸發鍍膜儀 高真空雙源熱蒸發鍍膜儀適用于蒸發涂覆大多數金屬和某些有機材料薄膜
-
三源高真空熱蒸發鍍膜儀 三源高真空蒸發鍍膜儀應用于金屬和介電膜,薄膜傳感器的制造,光學元件,納米與微電子,太陽能電池.
-
雙靶磁控濺射鍍膜儀 雙靶磁控濺射鍍膜儀CY-600-2HD為我公司研發的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電...
-
桌面型有機源蒸發鍍膜儀 熱蒸發鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發、氣態粒子的輸運以及在基底上的沉積成膜。在蒸發過程中，材料需要獲得足夠的熱能以克...
