供電電源

220, 50Hz

樣
品

臺(tái)
載
樣
盤

位置

上部

直徑尺寸

6 英寸（兼容小尺寸基片）

樣品臺(tái)升降距離

90mm-130mm 電動(dòng)升降 調(diào)整交接位置離子能量調(diào)節(jié)裝置1套

可調(diào)轉(zhuǎn)速

0-20rpm 可調(diào)

加熱溫度

RT~800℃ 控溫精度±1℃，采用合金加熱片加熱器（24 小時(shí)連續(xù)加熱 800 小時(shí)無(wú)故障）離子能量調(diào)節(jié)裝置 1 套，改善應(yīng)力分布，有助于減少膜層開裂翹曲風(fēng)險(xiǎn)

真
空
腔
體

主腔體尺寸

D500X500

送樣室

過渡傳送樣品腔體

300mm*220*110mm具備自動(dòng)傳送樣品功能

腔體材料

304 不銹鋼

烤氣和照明

具備內(nèi)烘烤除氣功能，具備腔外照明功能

內(nèi)壁處理

電解拋光

密封方式

氟橡膠密封

開門方式

手動(dòng)鋁合金前開門

觀察窗口

φ100mm（帶擋板）

均
勻
度

膜厚均勻性

≤±5%

樣品傳輸

手動(dòng)磁力傳遞桿

取送1片基片

磁
控
靶

槍

數(shù)量

1RF+3DC，配電動(dòng)擋板，一套強(qiáng)磁靶，三套永磁靶 可以鍍金、鈦、鉻、二氧化硅以及其他任何金屬和非金屬膜層

強(qiáng)磁靶：1套，尺寸3英寸75mm（用于濺射磁性材料薄膜，靶材厚度2mm 范圍內(nèi)），直流

永磁靶1套，尺寸3英寸75mm； 直流

永磁靶1套, 尺寸3英寸75mm 直流

射頻靶1套   尺寸3英寸75mm 射頻

擺頭角度

可調(diào)角度-45~45 度

濺射方向

向上濺射

靶材平面

圓形平面靶

靶材直徑

3英寸

靶材厚度

*厚3mm

直
流
電
源

數(shù)量

3臺(tái)

電源功率

500W

輸出電壓

0～800V

模式

電源可支持恒流、恒壓、恒功率三種模式

直流電源工作壓力范圍

 0-100pa

*大輸出電流

1A大于0.75A

連續(xù)工作時(shí)間

≥24 小時(shí)

啟動(dòng)時(shí)間

1~10S

射
頻
電
源

數(shù)量

1臺(tái) 600W

功率

輸出功率：600W
射頻頻率：13.56 MHz
匹配方式：自動(dòng)匹配
反射功率：≦100W（匹配后反射功率為0）
電源穩(wěn)定性：±0.1%
射頻輸出連接器：N型連接器自動(dòng)匹配器
整機(jī)效率≥75%
諧波分量≦-50 dbc
冷卻方式：強(qiáng)制風(fēng)冷
使用環(huán)境溫度：-10℃-40℃

陽(yáng)極層離子源

數(shù)量

1臺(tái)

功率

對(duì)基片進(jìn)行清洗，1套，配套擋板組件，*大離子能量≥700eV；

膜
厚
監(jiān)
測(cè)
儀

通道數(shù)

單通道

測(cè)量精度

0.1 ?

測(cè)量速度

100ms-1s/次，可設(shè)置測(cè)量范圍：500000?（鋁）

標(biāo)準(zhǔn)傳感器晶體

6MHz

適用晶片尺寸

Φ14mm

真
空
系
統(tǒng)

前級(jí)泵

雙極旋片泵*2套  1 套旋片真空泵抽速≥13L/S，1 套旋片真空泵抽速≥8L/S；

渦輪分子泵

數(shù)量：2

1 套濺射室分子泵抽速2000L/s

1 套進(jìn)樣室分子泵抽速600L/s

額定轉(zhuǎn)速：27000rpm

啟動(dòng)時(shí)間：≦5min

冷卻方式：水冷

進(jìn)氣接口：ISO150

出氣接口：KF40

真空度

濺射室：≤8.0x10-6Pa(經(jīng)烘烤除氣后)；

進(jìn)樣室：≤6.6x10-4Pa(經(jīng)烘烤除氣后)；

從大氣開始抽氣：濺射室30分鐘可達(dá)到6.6x10-4Pa

保壓性能

系統(tǒng)停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后真空度：≤5Pa

真空測(cè)量

復(fù)合真空計(jì)，測(cè)量范圍10-5Pa ~ 105 Pa

濺射室：1x105Pa-1x10-7Pa，進(jìn)樣室：1x105Pa-1x10-5Pa，工藝薄膜規(guī)    13.3pa；

水
冷
機(jī)

冷卻水流速

CW500010L/min

整機(jī)功率

冷卻水循環(huán)機(jī)制冷量 6.2KW

冷卻功率

50W/℃

水箱容量

9L

氣體控制

4路質(zhì)量流量控制器：

氬氣：0-200SCCM（準(zhǔn)確度：±1.5%F.S），

氮?dú)猓?/span>0-100SCCM（準(zhǔn)確度：±1.5%F.S），

氧氣：0-100SCCM（準(zhǔn)確度：±1.5%F.S），

甲烷氣：0-200SCCM（準(zhǔn)確度：±1.5%F.S），

配有混氣罐可以實(shí)現(xiàn)自動(dòng)氣體攪拌裝置 1 套；

空壓系統(tǒng)

 ≥140L/min  1套

控制系統(tǒng)

由工控機(jī)和PLC實(shí)現(xiàn)對(duì)整個(gè)系統(tǒng)的控制，

有自動(dòng)和手動(dòng)控制兩種功能，

操作過程全部在觸摸屏上實(shí)現(xiàn)，

提供配方設(shè)置、真空系統(tǒng)、磁控系統(tǒng)、工藝系統(tǒng)、充氣系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)等人機(jī)操作界面；

在工控機(jī)上可通過配方式參數(shù)設(shè)置方式實(shí)現(xiàn)對(duì)程序工藝過程和設(shè)備參數(shù)的設(shè)置PLC自動(dòng)控制

10.5英寸觸摸屏

自動(dòng)鍍膜程序：

具備長(zhǎng)膜程序設(shè)置，程序設(shè)置數(shù)量>10個(gè)

具各工藝記錄長(zhǎng)膜過程參數(shù)功能

其他

配備工具箱1套，空氣壓縮機(jī)排氣量≥140L/min，數(shù)量≥1套；冷卻水循環(huán)機(jī)制冷

量≥6.2KW，數(shù)量≥1套。100*100mm  樣品托≥10  件，其中≥5件盲托并配陣列螺釘孔，≥5件掩膜托。外置氣體質(zhì)量流量控制器≥2套，Air介質(zhì)(內(nèi)置氣體可切換≥98種)，量程范圍≥0～200sccm，質(zhì)量流量精度≤±0.6%讀數(shù)或±0.1%滿量程(取*大值)，可現(xiàn)場(chǎng)編輯混合氣體≥5種，顯示屏同時(shí)顯示質(zhì)量流量、體積流量、壓力、溫度等。外置氣體質(zhì)量流量控制器≥1套，帶流量顯示儀，量程范圍≥0～200sccm，準(zhǔn)確度：≤± 1.5%F.S。

閥門

電控氣動(dòng)閘板閥

電控氣動(dòng)切斷閥

電控氣動(dòng)旁抽閥

尺寸

1700mm*1000mm*1750mm