- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
真空噴霧熱解涂膜機(jī)是一種自動噴霧熱解設(shè)備，帶有不銹鋼腔和熔錫槽加熱器。真空噴霧熱解涂膜機(jī)包括三個壓縮氣體噴頭以實(shí)現(xiàn)多層薄膜涂層。與常規(guī)SS熱板相比，錫浴加熱器提供在涂覆過程中均勻且穩(wěn)定地加熱到基底。SS304腔室確保清潔健康的氣氛，適合zui苛刻的實(shí)驗(yàn)要求。
詳情介紹：
真空噴霧熱解涂膜機(jī)包含一個軟件，用于噴頭移動和分配速率的自動化。 由步進(jìn)電機(jī)控制的正排量泵用于根據(jù)需要分配溶液。 噴頭在基板上噴射精細(xì)的霧化溶液，其運(yùn)動由步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動的線性平臺在X和Y方向控制，以確保均勻涂層。 可以通過改變噴嘴處的壓縮氣體壓力來調(diào)節(jié)噴霧模式和速度。
噴霧熱解是通過在加熱的表面上噴射溶液來沉積薄膜的過程，其中組分反應(yīng)形成化合物。該方法對于氧化物的沉積特別有用，并且長期以來一直是將氧化錫（SnO2）或氧化錫的透明導(dǎo)電體施加到玻璃基板上的制造方法?，F(xiàn)在，這種技術(shù)越來越多地用于制備鈣鈦礦薄膜，例如鈣鈦礦太陽能電池。
超聲波熱解噴涂機(jī)技術(shù)參數(shù)：
|
產(chǎn)品名稱 |
真空高溫超聲波熱解噴涂 |
|
產(chǎn)品型號 |
CY-TSC-200*200-T |
|
控制方式 |
自動觸摸屏控制 |
|
樣品尺寸 |
Φ200mm |
|
本低真空 |
5.0x10-4pa（分子泵） |
|
供電電壓 |
AC220V，50/60Hz |
|
*大功率 |
3.5KW |
|
超聲波霧化器 |
50KHz 30W |
|
液體粘度 |
1-50mPa·s（cP） |
|
噴頭行程 |
X-Y軸 *大260mm |
|
移動速度 |
0-80mm/s （x軸方向） 0-80mm/s（Y軸方向） |
|
加熱襯底基板 |
Φ200mm |
|
*高溫度 |
1000℃ |
|
控溫方式 |
AI-PID 控溫 |
|
排氣裝置 |
該設(shè)備設(shè)有排氣裝置，以便分解后的氣體可以從排氣口裝置排出 |
|
注射方式 |
大流量注射泵 |
|
通信協(xié)議 |
Windows系統(tǒng)，默認(rèn)通信端口為RS485或RS232 |
|
尺寸 |
780x780x1500 |
|
重量 |
300KG |
