產(chǎn)品分類
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- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
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- 混料機設備
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- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
CY-PECVD-450化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術，能夠利用高能量等離子體促進反應過程，有效提升反應速度，降低反應溫度。適用于在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜，成膜質量好，針孔較少，不易龜裂，適用于制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽電池器件，可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。
詳情介紹：
技術參數(shù)：
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產(chǎn)品型號 |
CY-PECVD-450T-SS |
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真空腔體 |
前開門式，φ300mm X 300mm 不銹鋼材質 觀察窗：φ100mm 帶擋板 |
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真空泵組 |
前級泵：旋片泵 抽速1.1L/s 次級泵：渦輪分子泵 抽速600L/s |
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極限真空度 |
10-6Pa 三十分鐘內(nèi)可達到 10-4Pa |
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沉積真空 |
0.133~133Pa，可根據(jù)工藝調(diào)整 |
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射頻電源 |
13.56MHz，500W，自動匹配 |
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流量控制 |
質量流量計，默認 Ar氣 0~200sccm |
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整機尺寸 |
1100mm x 800mm x1100mm |
